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DELTA台達B07 M7M8M9
本課程提供4種真空鍍膜實驗單元,包含原子層沉積、蒸鍍、濺鍍以及化學氣相沉積,培養和訓練學生真空鍍膜的能力,使其熟 悉薄膜技術並配合本系所開"薄膜工程"課程,達到理論與實作結合目標。
Course keywords: 原子層沉積 (atomic la<x>yer deposition), 蒸鍍 (evaporation), 濺鍍 (sputtering), 化學氣相沉積 (chemical vapor deposition) 一、課程說明(Course Description) 本課程提供4種真空鍍膜實驗單元,包含原子層沉積、蒸鍍、濺鍍以及化學氣相沉積,培養和訓練學生 真空鍍膜的能力,使其熟悉薄膜技術並配合本系所開"薄膜工程"課程,達到理論與實作結合目標。 二、指定用書(Text Books) 真空技術與應用, 國研院精密儀器中心 (全華圖書, 2004)。 三、參考書籍(References) 數位教材或影片等。 四、教學方式(Teaching Method) 每實驗單元內容將分為4周,進度如下 第1周: 材料及鍍膜儀器原理解說 第2周: 鍍膜製程實驗示範與操作 第3周: 薄膜厚度量測 第4周: 相關薄膜性質量測 五、教學進度(Syllabus) 本課程計共有4個實驗單元 (每單元實驗內容將分為4周) A. 課程說明(W1) (1) 原子層沉積 (W2-W5) (2) 蒸鍍 (W6-W9) (3) 濺鍍 (W10-W13) (4) 化學氣相沉積 (W14-W17) B. 期末考(W18) 六、成績考核(Evaluation) (1) 原子層沉積單元 (20%) (2) 蒸鍍單元 (20%) (3) 濺鍍單元 (20%) (4) 化學氣相沉積單元 (20%) (5) 期末考 (20%) 其中每一實驗單元的評分細項如下: (a)實驗態度(20%) (b)實驗操作(30%) (c)實驗報告(50%) 七、AI 使用規則 本課程無涉及AI使用
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08:00108:50 | |||||
09:00209:50 | |||||
10:10311:00 | |||||
11:10412:00 | |||||
12:10n13:00 | |||||
13:20514:10 | |||||
14:20615:10 | |||||
15:30716:20 | |||||
16:30817:20 | |||||
17:30918:20 | |||||
18:30a19:20 | |||||
19:30b20:20 | |||||
20:30c21:20 |
Average GPA 4
Std. Deviation 0.13
工學院優先,第3次選課起開放全校修習
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